Toshiba พัฒนา SiC MOSFET พร้อมไดโอดกั้น Schottky ในตัวที่ให้ความต้านทานต่ำและมีความน่าเชื่อถือสูง
คาวาซากิ ญี่ปุ่น–(BUSINESS WIRE)–9 ธันวาคม 2022 Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation และ Toshiba Corporation (เรียกรวมกันว่า “Toshiba”) ได้พัฒนาทรานซิสเตอร์เอฟเฟกต์สนามสารกึ่งตัวนำ SiC ของโลหะออกไซด์ (MOSFET) ที่จัดเรียงไดโอดกั้น Schottky (SBD) ในตัวในรูปแบบการตรวจสอบ (รูปแบบการตรวจสอบแบบฝัง SBD) เพื่อให้เกิดทั้งความต้านทานต่ำและความน่าเชื่อถือสูง Toshiba ยืนยันว่าการออกแบบนี้ช่วยลดความต้านทาน[1] (RonA) ประมาณ 20% เมื่อเทียบกับ SiC MOSFET ในปัจจุบัน โดยไม่สูญเสียความน่าเชื่อถือ[2] […]